VHT系列的紧凑型窑炉属于电加热型箱式炉，加热元件由石墨、钼或MoSi2制成。通过采用多种加热设计和齐全的配件，该型窑炉亦可用于各项高技术要求的操作。 真空密封工作罐允许窑炉在保护气和反应气气氛或真空环境下（视规格而定，压力可达10-5 mbar）进行热处理加工。 通过配备相应的安全技术，窑炉也可用于氢气操作。

石墨– VHT ../GR

• 用于保护气和反应气或真空操作
• 最高温度1800 °C或2200 °C
• 石墨毡保温结构
• 温度测量通过B型热电偶（最高温度1800 °C）
• 温度测量通过光学高温计（最高温度2200 °C）

• 用于高纯度保护气和反应气或高度真空（至10-5 mbar）操作
• 最高温度1600 °C
• 钼辐射板保温结构

MoSi2 – VHT ../KE

• 可用于保护气和反应气、空气或真空操作
• 最高温度1800 °C
• 高纯度氧化铝保温结构

VHT基本炉型（所有加热设计）

• 标准炉腔容量8、40或100升
• 全面水冷式不锈钢工作罐带O形耐热密封环
• 钢质支架结构稳定，容易卸取的不锈钢盖板方便维护操作
• 带滑滚的炉型VHT 8移动方便
• 配备进回流关闭旋塞的冷却水分配器，自动化的流量监控，开放式的冷却水系统
• 配备流量和温度显示及超温保护装置的可调冷却水循环系统
• 开关设备和控制器集成在炉壳内
• PLC控制器H 700配备设计简洁的5.7英寸触摸式面板，用于输入程序和显示，最多可保存10个程序（每个程序20个可编程段）
• 过温保护限制器，根据EN 60519-2标准热力保护级别2调节断开温度
• 手动操作工作气和真空功能
• 手动配送工作气（N2或Ar），流量可调
• 带手控阀的旁路加快炉腔填充
• 配备溢流阀(相对压力20 mbar)的手控排气口
• 带球阀的一级式转阀泵，用于预抽真空和低度真空（至5 mbar）下的热处理
• 用于压力目视监控的压力计

额外配置

• 外壳可拆分，以便在炉门开口较小的情况下进行安装
• 手动配送第二种工作气（N2或Ar），流量和旁路可调
• 钼或CFC石墨曲颈进行直接配气，以确保干净的气体和良好的炉腔温度分布
• 带显示装置的装料热电偶
• 带球阀的二级式转阀泵，用于预抽真空和真空环境（至10-2 mbar）下的热处理
• 带封闭冷却水循环的换热器

通过使用工作气和排气管理自动阀门及功率强大的调节装置H3700，整个热处理过程可以实现全自动化运行。通过一台12英寸的触摸式面板可以轻松输入所有生产数据（温度、加热速度、供气和真空）。流程统领窗口显示设备状态和所有与作业有关的数据。所有的阀门和真空泵可以手动选择。 设备配备一个自动化的预编和后置程序（用于炉腔惰性化）和一个自动泄漏测试装置。

• 设备特点和VHT基本炉型相同，再加上：
• 自动配送工作气（N2或Ar），流量可调
• 旁路加快炉腔填充
• 带波纹阀和溢流阀(20mbar)的自动排气口
• 带波纹阀的一级式旋转叶轮泵，用于预抽真空和低度真空（至20 mbar）下的热处理
• 用于绝对和相对压力测量的压力传感器
• 调节装置H3700（10个程序/ 20个段）
• 通过12英寸的触摸式面板进行操作

额外配置

• MFC流量调节器，用于变换的体积流量和混合气制造（和第二种工作气）
• 炉压调节装置，配备位调排气阀（分压力调节）
• 排气燃烧装置（电或气加热），用于后燃操作过程中生成的废气
• 水冷式排气冷却装置
• 冷凝液收集器，用于分离较多的凝聚物
• 带波纹阀的二级式旋转叶轮泵，用于预抽真空和真空环境（至10-2 mbar）下的热处理
• 带涡轮分子泵（带截止阀）的泵工作站，用于预抽真空和真空环境（至10-5 mbar）下的热处理 （只用于钼规格），包含电压力传感器和增压泵
• 通过NCC运作的PC控制系统，可以进行相应的记录并和客户的PC网络建立连接

在使用氢气作为工作气时，我们的设备均配备必需的安全技术。我们只选取技术过硬并通过相应认证的装置作为安全传感器。窑炉由无故障控制系统（S7-300F/安全控制系统） 进行调节。控制和记录功能通过NCC实现

为确保安全的氢气操作，有两种与温度有关的设计方案供选择：

• 分压力工作：在调节性负压（分压力）下将H2导入工作罐，自750 °C炉温起
• 气氛操作：自室温起导入H2（相对压力50 mbar），工作容器内超压可控

带氢气操作的VHT自动化炉型

• 设备特点和不带氢气操作的VHT自动化炉型相同，再加上：
• 大量用于氢气操作的工作气阀门
• 所有工作气的预压受到监控
• 紧急充溢罐压力监控器，配备可自动打开的电磁阀
• 排气燃烧装置（电或气加热），用于H2后燃